发明名称 用于树脂模造之模件,树脂模造装置及半导体元件制造方法
摘要 一种模件,包括用于容纳树脂之釜,用于容纳待树脂模造之半导体晶片之模腔,以及作为树脂通道之流槽,以供将容纳于釜中的树脂输送至模腔。设置外来物质滞留穴,其为藉由进一步挖深流槽的部分内表面所形成的凹穴。流槽磁性体,其将经由流槽输送之流体中所包含的金属外来物质,吸引及吸附至外来物质滞留穴之内表面。
申请公布号 TWI321513 申请公布日期 2010.03.11
申请号 TW096101897 申请日期 2007.01.18
申请人 富士通微电子股份有限公司 发明人 深谷太;加藤祯胤
分类号 B29C43/34;B29C43/18;H01L21/56 主分类号 B29C43/34
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项 一种用于树脂模造之模件,包含:一釜,用于容纳树脂;一模腔,用于容纳一树脂模造标的;一流槽,用于输送容纳于该釜中之该树脂至该模腔;一外来物质滞留穴,其系设置于接近该釜之该流槽中;以及一第一磁性体,其系设置在该外来物质滞留穴。
地址 日本