发明名称 在金属表面形成防蚀层的试剂
摘要 一种在金属表面形成防蚀层的试剂,该试剂通过以下步骤制备:A)制备至少含以下成分的水溶液:a)含氧阳离子,选自MnO<sub>3</sub><sup>+</sup>、VO<sup>3+</sup>、VO<sup>2+</sup>、WO<sub>2</sub><sup>2+</sup>、MoO<sub>2</sub><sup>2+</sup>、TiO<sup>2+</sup>、ZrO<sup>2+</sup>或其组合,以及b)具有结构MX<sub>a</sub><sup>b-</sup>的卤素络合物阴离子,其中M选自B、Ti、Zr、Si、Al,X选自F、Cl、Br、I,a是3-6之间的整数,b是1-4之间的整数,以及B)对该溶液进行物理和/或化学处理,在溶液中原位形成平均粒径<500nm的纳米颗粒,其中物理和/或化学处理选自改变温度、改变离子浓度、改变pH、改变压力、使溶液过饱和、搅拌溶液、加入氧化剂和/或加入还原剂。
申请公布号 CN101668881A 申请公布日期 2010.03.10
申请号 CN200880010401.8 申请日期 2008.03.20
申请人 阿托泰克德国有限公司 发明人 U·霍夫曼;H·东斯巴赫;J·昂格尔
分类号 C23C22/34(2006.01)I 主分类号 C23C22/34(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 朱黎明;张 静
主权项 1.一种在金属表面形成防蚀层的试剂,该试剂通过以下步骤制备:A)制备至少含以下成分的水溶液:a)含氧阳离子,选自MnO3+、VO3+、VO2+、WO22+、MoO22+、TiO2+、ZrO2+或其组合,以及b)具有结构MXab-的卤素络合物阴离子,其中M选自B、Ti、Zr、Si、Al,X选自F、Cl、Br、I,a是3-6之间的整数,b是1-4之间的整数,以及B)对该溶液进行物理和/或化学处理,在溶液中原位形成平均粒径<500nm的纳米颗粒,其中物理和/或化学处理选自改变温度、改变离子浓度、改变pH、改变压力、使溶液过饱和、搅拌溶液、加入氧化剂和/或加入还原剂。
地址 德国柏林
您可能感兴趣的专利