| 发明名称 | 一种等离子刻蚀残留物清洗液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种等离子刻蚀残留物清洗液，其包含溶剂、水和氟化物，其还含有含颜料亲和基团的星形聚合物。本发明的等离子刻蚀残留物清洗液可以有效去除等离子刻蚀后的光阻残留物、同时可以高效的抑制金属(尤其是铝)和非金属的腐蚀、有较大的清洗和漂洗的操作窗口。 | ||
| 申请公布号 | CN101666984A | 申请公布日期 | 2010.03.10 |
| 申请号 | CN200810042569.9 | 申请日期 | 2008.09.05 |
| 申请人 | 安集微电子科技（上海）有限公司 | 发明人 | 刘兵;彭洪修;彭杏;于昊 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 1、一种等离子刻蚀残留物清洗液，包含溶剂、水和氟化物，其特征在于：其还含有含颜料亲和基团的星形聚合物。 | ||
| 地址 | 201201上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层 | ||