| 发明名称 | 低蚀刻性光刻胶清洗剂 | ||
| 摘要 | 一种光刻胶清洗剂包括：苯甲醇和/或其衍生物、季铵氢氧化物和二甲基亚砜。该清洗剂可用于除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶(光阻)和其它残留物。 | ||
| 申请公布号 | CN101663620A | 申请公布日期 | 2010.03.03 |
| 申请号 | CN200880011243.8 | 申请日期 | 2008.04.03 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 史永涛;彭洪修;刘兵 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;C23G1/06(2006.01)I;C11D1/83(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | PCT国内申请，权利要求书已公开。 | ||
| 地址 | 中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||