发明名称 金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置
摘要 本发明涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置,包括开卷机组(10),其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-5个A低真空室(20a),1-3离子处理室(30),1-5个B低真空室(40),2-9个高真空室(50),1-8个镀膜室(60);1-5个A低真空室(20b),室与室之间有法兰密封连接,并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2);各真空室与真空机组(90)相连;在真空镀膜室外还设有收卷机组(80),连续镀膜的控制系统(100)。这种装置的优点在于:可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜,膜层厚度可独立进行控制,膜层均匀致密,附着力强,工艺重复性好、生产效率高适合工业化生产。
申请公布号 CN101649448A 申请公布日期 2010.02.17
申请号 CN200910166892.1 申请日期 2009.08.26
申请人 兰州大成自动化工程有限公司;兰州大成真空科技有限公司;常州大成绿色镀膜科技有限公司 发明人 范多望;范多进;孔令刚;令晓明
分类号 C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/56(2006.01)I
代理机构 兰州振华专利代理有限责任公司 代理人 张 真
主权项 1.一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置,包括开卷机组(10),其特征在于设置的真空镀膜室包括有1-5个A低真空室(20a),1-3离子处理室(30),1-5个B低真空室(40),2-9个高真空室(50),1-8个镀膜室(60);1-5个A低真空室(20b),室与室之间有法兰密封连接,并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2);各真空室设置与真空机组(90)相连;在真空镀膜室外还设有收卷机组(80),连续镀膜的控制系统(100)。
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