发明名称 |
一种精密抛光布及其制备方法 |
摘要 |
一种精密抛光布及其制造方法,所述抛光布包括布基,所述布基采用编织布料,布基表面具有由经向纱线和纬向纱线编织形成的凹坑,在所述布基表面上具有通过涂布带有研磨微粉的研磨浆料所形成的研磨涂层,所述研磨涂层具有容屑坑,所述容屑坑与所述布基表面的凹坑相对应。本发明以柔软富有弹性的布基为底材,布基表面的研磨涂层具有容屑坑,具有收集研磨时产生的磨屑的功能。将该抛光布用于TFT-LCD的Cell制程中偏光片贴附前基板的清洁处理,能有效地去除基板表面的玻璃屑、残胶、油渍等杂质;同时研磨产生的磨屑能够储存在容屑坑处,从而避免对玻璃基板造成划伤,既满足了成品率的要求,又能满足生产效率的要求。 |
申请公布号 |
CN101648368A |
申请公布日期 |
2010.02.17 |
申请号 |
CN200910092219.8 |
申请日期 |
2009.09.07 |
申请人 |
北京国瑞升科技有限公司 |
发明人 |
张增明;葛丙恒 |
分类号 |
B24D11/00(2006.01)I;B24D11/02(2006.01)I;B24D18/00(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I;B24D3/28(2006.01)I |
主分类号 |
B24D11/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 |
代理人 |
吴小灿 |
主权项 |
1.一种精密抛光布,包括布基,其特征在于,所述布基采用编织布料,所述布基表面具有由经向纱线和纬向纱线编织形成的凹坑,在所述布基表面上具有通过涂布带有研磨微粉的研磨浆料所形成的研磨涂层,所述研磨涂层具有容屑坑,所述容屑坑与所述布基表面的凹坑相对应。 |
地址 |
100085北京市海淀区上地信息路12号中关村发展大厦C座401室 |