| 发明名称 | 间苯二酚杯芳烃化合物、光致抗蚀剂基材及其组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，该组合物含有用酸性水溶液洗涤并且用离子交换树脂处理后的、由下述通式(2)所示的感放射线性有机化合物构成的光致抗蚀剂基材；光酸发生剂或者光碱发生剂；以及猝灭剂；式中，A为由下式所示的有机基团；B、C和D相互独立地为叔丁氧基羰基甲基、叔丁氧基羰基、或者由下式所示的有机基团；P为碳数6～20的(r+1)价的芳香族基团，Q为碳数4～30的有机基团，r为1～10的整数，s为0～10的整数，X、Y和Z相互独立地为单键或者醚键，l+m+n＝3或者8。 | ||
| 申请公布号 | CN101650531A | 申请公布日期 | 2010.02.17 |
| 申请号 | CN200910165089.6 | 申请日期 | 2005.04.01 |
| 申请人 | 出光兴产株式会社 | 发明人 | 石井宏寿;大和田贵纪;芝崎祐二;上田充 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱 丹 |
| 主权项 | 1.一种光致抗蚀剂组合物，含有用酸性水溶液洗涤并且用离子交换树脂处理后的、由下述通式(2)所示的感放射线性有机化合物构成的光致抗蚀剂基材；光酸发生剂或者光碱发生剂；以及猝灭剂；<img file="A2009101650890002C1.GIF" wi="687" he="677" />式中，A为由下式：<img file="A2009101650890002C2.GIF" wi="980" he="453" />所示的有机基团；B、C和D相互独立地为叔丁氧基羰基甲基、叔丁氧基羰基、或者由下式所示的有机基团；<img file="A2009101650890002C3.GIF" wi="670" he="148" />P为碳数6～20的(r+1)价的芳香族基团，Q为碳数4～30的有机基团，r为1～10的整数，s为0～10的整数，X、Y和Z相互独立地为单键或者醚键，l+m+n＝3或者8。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||