发明名称 Feldeffekteinrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben
摘要 Ausführungsbeispiele betreffen einen Feldeffekttransistor, der einen Bodybereich, einen ersten Source-/Drainbereich eines ersten Leitfähigkeitstyps, einen zweiten Source-/Drainbereich von dem ersten Leitfähigkeitstyp und einen Taschenimplantationsbereich benachbart zu dem ersten Source-/Drainbereich aufweist, wobei der Taschenimplantationsbereich von einem zweiten Leitfähigkeitstyp ist, wobei der zweite Leitfähigkeitstyp sich von dem ersten Leitfähigkeitstyp unterscheidet. Der Bodybereich kontaktiert den Taschenimplantationsbereich körperlich.
申请公布号 DE102009030086(A1) 申请公布日期 2010.02.11
申请号 DE20091030086 申请日期 2009.06.23
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 GOSSNER, HARALD;RAO, RAMGOPAL;SHOJAEI BAGHINI, MARYAM;SHRIVASTAVA, MAYANK
分类号 H01L29/78;H01L21/331;H01L23/60 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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