发明名称 |
Feldeffekteinrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben |
摘要 |
Ausführungsbeispiele betreffen einen Feldeffekttransistor, der einen Bodybereich, einen ersten Source-/Drainbereich eines ersten Leitfähigkeitstyps, einen zweiten Source-/Drainbereich von dem ersten Leitfähigkeitstyp und einen Taschenimplantationsbereich benachbart zu dem ersten Source-/Drainbereich aufweist, wobei der Taschenimplantationsbereich von einem zweiten Leitfähigkeitstyp ist, wobei der zweite Leitfähigkeitstyp sich von dem ersten Leitfähigkeitstyp unterscheidet. Der Bodybereich kontaktiert den Taschenimplantationsbereich körperlich.
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申请公布号 |
DE102009030086(A1) |
申请公布日期 |
2010.02.11 |
申请号 |
DE20091030086 |
申请日期 |
2009.06.23 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
GOSSNER, HARALD;RAO, RAMGOPAL;SHOJAEI BAGHINI, MARYAM;SHRIVASTAVA, MAYANK |
分类号 |
H01L29/78;H01L21/331;H01L23/60 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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