首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Method for manufacturing dual gate in semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100940264(B1) 申请公布日期 2010.02.04
申请号 KR20070100573 申请日期 2007.10.05
申请人 发明人
分类号 H01L21/336;H01L29/78 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com