发明名称 表面发射激光器及阵列、其制造方法和光学装置
摘要 本发明提供一种表面发射激光器及阵列、其制造方法和光学装置。该表面发射激光器制造方法等减少表面浮雕结构所出现的处理损伤,从而使得能够稳定地提供单横模特性。提供一种包含用于控制上部镜子的发光部分中的反射率的表面浮雕结构的方法,该表面浮雕结构包含阶梯结构,该方法包括:在上部镜子上面或之上,形成包含用于形成台面结构的图案和用于形成阶梯结构的图案的抗蚀剂图案,并执行第一阶段蚀刻,用于蚀刻上部镜子的表面层以确定阶梯结构的水平位置;在执行第一阶段蚀刻之后,形成电流限制结构;以及在形成电流限制结构之后,执行第二阶段蚀刻,用于进一步蚀刻已执行第一阶段蚀刻的区域,以确定阶梯结构的深度位置。
申请公布号 CN101640376A 申请公布日期 2010.02.03
申请号 CN200910165015.2 申请日期 2009.07.28
申请人 佳能株式会社 发明人 井久田光弘;稻生耕久;山口贵子
分类号 H01S5/18(2006.01)I;H01S5/183(2006.01)I;H01S5/065(2006.01)I;H01S5/068(2006.01)I;H01S5/42(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I 主分类号 H01S5/18(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 罗银燕
主权项 1.一种用于制造表面发射激光器的表面发射激光器制造方法,该表面发射激光器包含:层叠在基板上的下部镜子、活性层和上部镜子,以及所述上部镜子的发光部分处的表面浮雕结构,该方法包括:在所述上部镜子上面或之上,形成包含用于形成台面结构的第一图案和用于形成所述表面浮雕结构的第二图案的抗蚀剂图案;执行第一阶段蚀刻,用于使用所述抗蚀剂图案蚀刻所述上部镜子的表面层,以确定所述表面浮雕结构的水平位置;在执行所述第一阶段蚀刻之后,形成用于约束注入到所述活性层的电流的电流限制结构;以及在形成电流限制结构之后,执行第二阶段蚀刻,用于进一步蚀刻其中已执行所述第一阶段蚀刻的区域,以确定所述表面浮雕结构的深度位置。
地址 日本东京