磁控溅镀装置

摘要

本创作系揭露一种磁控溅镀装置，可包含一反应室、一靶板、二个不同极性之磁性单元及一基材。靶板系设置于反应室中。磁性单元系设置于靶板之一侧，每一磁性单元分别具有一导角，且于磁性单元之间形成一特定之磁力曲线。基材系设置于反应室中。藉由使磁性单元形成特定导角，使大部分之磁力曲线平行于靶板，因此位于反应室内之制程离子可轰击大部分之靶板面积，以延长靶板之使用寿命。

主权项

一种磁控溅镀装置，包含：一反应室，系容置一基材；一靶板，系设置于该反应室中；一第一磁性单元，系设置于该靶板之一侧，该第一磁性单元具有一第一导角；及一第二磁性单元，系设置于该靶板之一侧并环设于第一磁性单元之外侧，该第二磁性单元具有一第二导角，且该第二磁性单元与该第一磁性单元具有不同的磁极；其中，该第一磁性单元及该第二磁性单元之间系形成复数条磁力曲线。