| 摘要 |
<p>L'invention concerne un substrat semi-conducteur comportant une couche semi-conductrice (20) comprenant au moins une région semi-conductrice (22a, 22b, 22c), caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens (21a), dans ladite couche, aptes à contraindre mécaniquement la région semi-conductrice (22a, 22b, 22c).</p> |
