发明名称 |
研磨垫及其应用与其制造方法 |
摘要 |
本发明主要系关于一种研磨垫,该研磨垫包含:一包含纤维之基底材料;一具有低渗透性之薄膜;一个二液型糊剂,其形成于该具有低渗透性之薄膜之上表面上,用于将该基底材料黏合至该具有低渗透性之薄膜;以及一聚氨酯糊剂,其形成于该具有低渗透性之薄膜之下表面上。本发明亦提供一种包含使用该研磨垫研磨一基板之方法,以及一种用于制造如上述之研磨垫之方法。如上述之研磨垫可防止该研磨垫与研磨平板或研磨头分离,并易于更换该研磨垫而不会在该研磨平板或研磨头上遗留残余物。 |
申请公布号 |
TWI319731 |
申请公布日期 |
2010.01.21 |
申请号 |
TW096119161 |
申请日期 |
2007.05.29 |
申请人 |
三芳化学工业股份有限公司 |
发明人 |
冯崇智;姚伊蓬;王良光;洪永璋;宋坤政 |
分类号 |
B24B37/04;B24D13/14;H01L21/304 |
主分类号 |
B24B37/04 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡东贤 |
主权项 |
一种研磨垫,其包含:一基底材料,包含纤维;一薄膜,具有低渗透性,该薄膜具有一上表面及一下表面;一个二液型糊剂,其形成于该具有低渗透性之薄膜之该上表面上,用于将该基底材料黏合至该具有低渗透性之薄膜;以及一聚氨酯糊剂,其形成于该具有低渗透性之薄膜之该下表面上。 |
地址 |
高雄县仁武乡凤仁路402号 |