微影设备，照射系统及过滤系统

摘要

本发明系揭示一种微影设备，包括一照射系统，其配置成适应一辐射束，及一过滤系统，用以将破碎粒子从该辐射束滤除，其中该过滤系统包括复数个薄片，用以捕获该等破碎粒子，其中该复数个薄片之至少一薄片包括至少二部分，其具有一互相不同之定向，且其沿着一大体上直的连线而互相连接，其中各该二部分大体上与一虚拟平面一致，该虚拟平面延伸通过一预设位置，其在使用中意欲大体上与一产生该辐射之来源一致，该直的连线大体上与一也延伸通过该预设位置之虚拟直线一致。

主权项

一种微影设备，包括：一照射系统，其配置成形成一辐射投射束，其包括：(a)一辐射源，其发射辐射；(b)一过滤系统，用以将破碎粒子从该辐射源发射之该辐射滤除，其中该过滤系统包括复数个薄片，用以捕获该等破碎粒子；及(c)一照射系统，配置成将该辐射源发射之该辐射形成为一适应之辐射束；及一投射系统，配置成将该辐射投射束投射至一基板；其中该复数个薄片之至少一薄片包括至少二部分，其具有一互相不同之定向，且其沿着一大体上直的连线而互相连接，及其中各该二部分大体上与一延伸通过一预设位置之虚拟平面一致，该预设位置意欲大体上与该辐射源一致，该大体上直的连线与一亦延伸通过该预设位置之虚拟直线一致。