发明名称 |
大容量烧嘴 |
摘要 |
本发明涉及一种烧嘴,所述烧嘴包括烧嘴头、用于燃料和含氧气体的供应开孔、用于含氧气体的中心管状通道和用于燃料的径向朝外设置的通道。用于燃料的通道在烧嘴头处与一个或多个燃料排放开孔流体连通,和其中所述燃料排放开孔导向内部使得在使用中燃料被注入含氧气体物流中。所述中心通道配有位于用于含氧气体的供应开孔和燃料排放开孔之间的障碍物。本发明也涉及使用所述烧嘴的方法。 |
申请公布号 |
CN101627259A |
申请公布日期 |
2010.01.13 |
申请号 |
CN200880000783.6 |
申请日期 |
2008.01.15 |
申请人 |
国际壳牌研究有限公司 |
发明人 |
JC·德容 |
分类号 |
F23D1/00(2006.01)I;C10J3/48(2006.01)I |
主分类号 |
F23D1/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王长青 |
主权项 |
1.烧嘴,所述烧嘴包括烧嘴头、用于燃料和含氧气体的供应开孔、用于含氧气体的中心管状通道和用于燃料的径向朝外设置的通道,其中用于燃料的通道在烧嘴头处与一个或多个燃料排放开孔流体连通,其中所述燃料排放开孔导向内部使得在使用中燃料被注入含氧气体物流中,和其中所述中心通道配有位于氧的流路中的障碍物和其中至少部分燃料排放开孔的位置使得在使用中燃料在所述障碍物下游端存在的滞留区中排放。 |
地址 |
荷兰海牙 |