| 发明名称 |
光阻图案改良材料 |
| 摘要 |
本发明提供一种于形成细小图案期间减少边缘粗度之改良。欲达成此项目的，于光阻膜图案化后，涂覆膜形成于光阻膜上，因而光阻膜材料与涂覆膜材料于其间之界面交混而减低边缘粗度。提供一种光阻图案改良材料，包含(a)水溶性或硷溶性组成物，包含：(i)树脂，以及(ii)交联剂。另外，该光阻图案改良材料包含(a)水溶性或硷溶性组成物，包含：(i)树脂，以及(ii)非离子性界面活性剂。根据本发明，于下列步骤制备图案，包含(a)形成光阻图案；以及(b)涂覆光阻图案改良材料于该光阻图案表面上。根据本发明，光阻图案改良材料与光阻图案于于该二者之界面上相混合。光阻图案可经由照射ArF准分子雷射光、或波长比ArF准分子雷射光波长更短的雷射光制成。光阻图案改良材料之图案包括实质上不会透射ArF准分子雷射光之基本树脂。 |
| 申请公布号 |
TWI319515 |
申请公布日期 |
2010.01.11 |
| 申请号 |
TW098123917 |
申请日期 |
2002.12.23 |
| 申请人 |
富士通股份有限公司 |
发明人 |
野崎耕司;小泽美和 |
| 分类号 |
G03F7/038;C08L29/04;C08L31/04;C08L59/00 |
主分类号 |
G03F7/038 |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
| 主权项 |
一种光阻图案改良材料，其包含：(a)一水溶性或硷溶性组成物，其包含：(i)一树脂，以及(ii)一交联剂或非离子性界面活性剂，以及(b)一水溶性芳香族化合物，其中该水溶性芳香族化合物系选自以下所构成的组群：多元酚，以间苯二酚、间苯二酚[4]芳羟、五倍子酚、没食子酸及其衍生物为代表；萘多元醇，以萘二酚、萘三酚及其衍生物为代表；以及二苯甲酮衍生物，以茜草素黄A为代表。 |
| 地址 |
日本 |
