利用光阻图案改良材料制备光阻图案之方法

摘要

本发明提供一种于形成细小图案期间减少边缘粗度之改良。欲达成此项目的，于光阻膜图案化后，涂覆膜形成于光阻膜上，因而光阻膜材料与涂覆膜材料于其间之界面交混而减低边缘粗度。提供一种光阻图案改良材料，包含(a)水溶性或硷溶性组成物，包含：(i)树脂，以及(ii)交联剂。另外，该光阻图案改良材料包含(a)水溶性或硷溶性组成物，包含：(i)树脂，以及(ii)非离子性界面活性剂。根据本发明，于下列步骤制备图案，包含(a)形成光阻图案；以及(b)涂覆光阻图案改良材料于该光阻图案表面上。根据本发明，光阻图案改良材料与光阻图案于其间之界面混合。光阻图案可经由照射ArF准分子雷射光、或波长比ArF准分子雷射光波长更短的雷射光制成。光阻图案改良材料之图案包括实质上不会透射ArF准分子雷射光之基本树脂。

主权项

一种制备图案之方法，其包含：形成一光阻图案；以及涂覆一光阻图案改良材料于该光阻图案表面，其中该光阻图案改良材料与该光阻图案于该二者之界面上相混合，其中该光阻图案改良材料含有：(a)一水溶性或硷溶性组成物，其包含：(i)一树脂，及(ii)一交联剂或非离子性界面活性剂，以及(b)一水溶性芳香族化合物，其中该水溶性芳香族化合物系选自以下所构成的组群：多元酚，以没食子酸及其衍生物为代表；萘多元醇，以萘二酚、萘三酚及其衍生物为代表；以及二苯甲酮衍生物，以茜草素黄A为代表，其中该光阻图案系经由照射ArF准分子雷射光或波长比该ArF准分子雷射光更短之雷射光而形成；以及其中该光阻图案改良材料之图案包括一基本树脂，该基本树脂实质不会透射ArF准分子雷射光。