发明名称 Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung eines Strahlflecks eines Partikelstrahls sowie Anlage zur Erzeugung eines Partikelstrahls
摘要 <p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Vermessung eines Strahlflecks (37) eines Partikelstrahls, umfassend eine Einrichtung (31, 49), mit der Projektionen des Strahlflecks (37) auf eine Vielzahl von Richtungen (38, 40, 42, 44), die insbesondere im Wesentlichen senkrecht zu einer Verlaufsrichtung des Partikelstrahls stehen, erfassbar sind, und eine Auswertungseinheit (47), mit der aus den erfassten Projektionen ein zweidimensionales Querschnittsprofil des Partikelstrahls rekonstruierbar ist. Weiterhin umfasst die Erfindung ein entsprechendes Verfahren. Weiterhin umfasst die Erfindung eine Anlage zur Erzeugung eines Partikelstrahls mit einer derartigen Vorrichtung.</p>
申请公布号 DE102008029609(A1) 申请公布日期 2009.12.31
申请号 DE20081029609 申请日期 2008.06.23
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 RIETZEL, EIKE
分类号 G01T1/29;A61N5/10;G01T1/02 主分类号 G01T1/29
代理机构 代理人
主权项
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