| 发明名称 | 一种光刻胶清洗剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻胶清洗剂组合物，包含醇胺类化合物、水溶性极性有机溶剂和水，其中还包含选自环己六醇磷酸酯和环己六醇磷酸盐中的一种或几种。本发明的清洗剂组合物可以有效除去半导体晶片上的光刻胶、刻蚀或灰化后的光刻胶残留物或其它残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料具有很弱的腐蚀性，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 申请公布号 | CN101614970A | 申请公布日期 | 2009.12.30 |
| 申请号 | CN200810039756.1 | 申请日期 | 2008.06.27 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 史永涛;彭洪修;曹惠英 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 1、一种光刻胶清洗剂组合物，包含醇胺、水溶性极性有机溶剂和水，其特征在于，还含有选自环己六醇磷酸酯和环己六醇磷酸盐中的一种或几种。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||