发明名称 | 正性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法 | ||
摘要 | 正性抗蚀剂组合物,它包括树脂组分(A)和酸生成剂组分(B),所述组分(A)包括在酸作用下其碱溶性增加的可酸解溶解抑制基团,而所述组分(B)在曝光时产生酸,其中树脂组分(A)为包括衍生自羟基苯乙烯的第一结构单元(a1)和衍生自含醇式羟基的(甲基)丙烯酸酯的第二结构单元(a2)的共聚物,其中在结构单元(a1)内的羟基和结构单元(a2)内的醇式羟基的总量的10摩尔%或更多以及25摩尔%或更少用可酸解溶解抑制基团保护,而共聚物用可酸解溶解抑制基团保护之前的重均分子量为2,000-8,500。 | ||
申请公布号 | CN100576076C | 申请公布日期 | 2009.12.30 |
申请号 | CN200380107529.3 | 申请日期 | 2003.12.18 |
申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 佐藤和史;萩原三雄;川名大助 |
分类号 | G03F7/039(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/039(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 陈长会 |
主权项 | 1.一种正性抗蚀剂组合物,它包括如下组分:树脂组分(A),它包括在酸作用下其碱溶性增加的可酸解溶解抑制基团;和酸生成剂组分(B),它在曝光时产生酸,其中树脂组分(A)为包括衍生自羟基苯乙烯的第一结构单元(a1)和衍生自含醇式羟基的(甲基)丙烯酸酯的第二结构单元(a2)的共聚物,其中在第一结构单元(a1)内的羟基和第二结构单元(a2)内的醇式羟基的总量的10摩尔%或更多且25摩尔%或更少被可酸解溶解抑制基团保护,用可酸解溶解抑制基团保护之前的所述共聚物的重均分子量为4,500或更多且8,000或更少,第一结构单元(a1)由通式(I)表示,并且第二结构单元(a2)由通式(II)表示:<img file="C2003801075290002C1.GIF" wi="753" he="435" />其中,R表示氢原子或甲基,<img file="C2003801075290002C2.GIF" wi="892" he="717" />其中,R表示氢原子或甲基,而x表示从1~3的整数。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |