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发明名称
Halbleiterschichtstruktur und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschichtstruktur
摘要
申请公布号
DE502007001932(D1)
申请公布日期
2009.12.24
申请号
DE20075001932T
申请日期
2007.01.24
申请人
SILTRONIC AG
发明人
MURPHY, BRIAN;HAEBERLEN, MAIK;LINDNER, JOERG DR.;STRITZKER, BERND PROF. DR.
分类号
H01L21/20;H01L21/265
主分类号
H01L21/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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