发明名称 Halbleiterschichtstruktur und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschichtstruktur
摘要
申请公布号 DE502007001932(D1) 申请公布日期 2009.12.24
申请号 DE20075001932T 申请日期 2007.01.24
申请人 SILTRONIC AG 发明人 MURPHY, BRIAN;HAEBERLEN, MAIK;LINDNER, JOERG DR.;STRITZKER, BERND PROF. DR.
分类号 H01L21/20;H01L21/265 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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