摘要 |
Eine Kammeranordnung für eine Elektronenstrahlbearbeitungsvorrichtung weist ein Kammergehäuse (12), das einen Kammerinnenraum (14) definiert und eine erste Öffnung (46) aufweist, einen Schlitten (52), der im Bereich der ersten Öffnung (46) bewegbar ist, einen Elektronenstrahlgenerator (42) zum Erzeugen eines Elektronenstrahls entlang einer Elektronenstrahlachse (45), wobei der Elektronenstrahlgenerator (42) an dem Schlitten (52) so angeordnet ist, dass bei einer Bewegung des Schlittens (52) im Bereich der ersten Öffnung (46) der Elektronenstrahl durch die erste Öffnung (46) hindurchgeht, und eine Scheibe (70) auf. Die Scheibe (70) ist zwischen dem Kammergehäuse (12) und dem Schlitten (52) angeordnet und ist um eine Drehachse (72), die senkrecht zu der ersten Öffnung (46) ist, wenigstens zwischen einer ersten Position (A) und einer zweiten Position (B) drehbar und weist eine zweite Öffnung (74) mindestens in einem Bereich der Scheibe (70), der sich in radialer Richtung von der Drehachse (72) der Scheibe (70) weg erstreckt, auf. Die Drehachse (72) der Scheibe (70) ist so angeordnet, dass sich die erste Öffnung (46) und die zweite Öffnung (74) bei einer Drehung der Scheibe (70) zwischen der ersten Position (A) und der zweiten Position (B) wenigstens im Bereich der Elektronenstrahlachse (45) überdecken.
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