| 发明名称 | 抗反射涂层及其设计方法 | ||
| 摘要 | 一种抗反射涂层，形成在一底层与一光阻层之间，其特征在于抗反射涂层的折射值n值是一固定值且消光系数k值呈梯度向底层增加。因此，只要控制k值就可以在不同的底层上得到趋近于零的基底反射率。 | ||
| 申请公布号 | CN100573319C | 申请公布日期 | 2009.12.23 |
| 申请号 | CN200510073018.5 | 申请日期 | 2005.05.27 |
| 申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 黄俊清 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿 宁;张华辉 |
| 主权项 | 1、一种抗反射涂层，适于形成在一底层与一光阻层之间，其特征在于：该抗反射涂层的折射值n值是一固定值；以及该抗反射涂层的消光系数k值呈梯度向该底层增加，其中所述的抗反射涂层中具有不同消光系数k值的各层的厚度不同，且所述的抗反射涂层中具有不同消光系数k值的各层的厚度向该底层逐渐增加。 | ||
| 地址 | 中国台湾 | ||