发明名称 用于浸液式光刻的折射投影物镜
摘要 一种适合于浸液式显微光刻法的纯折射投影物镜设计成单腰部系统,所述系统具有五个透镜组,在这样的情况中,提供了具有负折射能力的第一透镜组、具有正折射能力的第二透镜组、具有负折射能力的第三透镜组、具有正折射能力的第四透镜组以及具有正折射能力的第五透镜组。所述系统孔布置在第四透镜组和第五透镜组之间的最大射束直径的区域中。本发明所涉及的投影物镜的实施例获得了NA>1的非常高的数值孔径以及具有大像场,并且其特征在于,良好的光学校正状态和适度的总尺寸。当在操作波长低于200nm的情况下在投影物镜与衬底之间使用浸液时可分辨基本低于100nm的图像宽度。
申请公布号 CN100573222C 申请公布日期 2009.12.23
申请号 CN03805575.9 申请日期 2003.02.26
申请人 卡尔蔡司SMT股份公司 发明人 H·-J·罗斯塔尔斯基;W·乌尔里希
分类号 G02B9/60(2006.01)I;G02B13/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G02B9/60(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 邱 军
主权项 1.一种借助于布置在投影物镜的最后光学元件与像面之间的浸液介质将布置在投影物镜的物面中的图案投影在投影物镜的像面中的折射投影物镜,其包括:位于物面之后的具有负折射能力的第一透镜组(LG1);位于第一透镜组后面的具有正折射能力的第二透镜组(LG2);位于第二透镜组后面的具有负折射能力的第三透镜组(LG3);位于第三透镜组后面的具有正折射能力的第四透镜组(LG4);位于第四透镜组后面的具有正折射能力的第五透镜组(LG5);以及布置在第四透镜组和第五透镜组之间的最大射束直径的区域中的系统孔(5)。
地址 德国上科亨