| 主权项 |
1.一种制造下式化合物之方法: 其中W氧或硫; R为1至6个碳原子之烷基,1 至5个碳原子之氟烷基,2至6个碳 原子之烷氧烷基,2至6个碳原子之 烷硫烷基,1至5个烷碳原子之氰烷 基,2至6个碳原子之卤烷氧烷基, 三氟甲基硫基,2至5个碳原子之烯 基,或2至5个碳原子之卤烯基; X 及X 之一为氟、氯、或溴 而另一为氟、氯、溴、1至6个碳原 子之烷基,或1至5个碳原子之卤烷 基;或X 为氟、氯、或溴及X 为 选自上述取代基及硝基;且 Z为选自氢、氟、氯、溴、氰基 、硝基,1至6个碳原子之烷基,被 氟、氯、溴或1至4个碳之烷氧基取 代之1至5个碳原子烷基,及3至5 个碳之炔基; 特征乃在 存在之下,下式化合 物: 与R-X反应「W、X 、X 、Z及R如上述定义者且X为可移去 之基」。2.根据上述请求专利部份第1项之方法 ,其特征乃W为氧,R为正-丙基或 3-氟丙基,X 为氟或氯,及X 为氯。3.一种制造下式化合物之方法: 其中W为氧或硫; R为1至6个碳原子之烷基,1 至5个碳原子之氟烷基,2至6个碳 原子之烷氧烷基,2至6个碳原子之 烷硫烷基,1至5个烷碳原子之氰烷 基,2至6个碳原子之卤烷氧烷基, 三氟甲基硫基,2至5个碳原子之烯 基,或2至5个碳原子之卤烯基; X 及X 之一为氟,氯或溴而 另一为氟,氯、溴,1至6个碳原子 之烷基,或1至5个碳原子之卤烷基 ;或X 为氟、氯或溴及X 为选自 上述取代基及硝基;且 Z为-OR一,OSO R , QR CO-Q R,-QR CO N =C(R )(R ),-QR C(CH3) =R ,或-QR CON(R )(R ) ; Q及Q 为独立之氧或硫; R 为1至6个碳原子之烷基, 1至5个碳原子之卤烷基,1至5个 碳原子之羟烷基,1至5个烷碳原子 之氰烷基,2至6个碳原子之烷氧烷 基,(各为2至6个碳原子之)烷硫 烷基,烷亚磺醯烷基或烷磺醯烷基, 2至5个碳原子之烷醯基,2至5个 碳原子之烯基,2至5个碳之卤烯基 ,3至6个碳之烯氧烷基,2至5个 碳之炔基,2至5个碳之卤炔基,1 至4个烷碳原子之烷氧羰基,1或2 个具3至8个元素环之杂环芏,相同 或不同之杂环原子选自氧及硫或被上 述杂环基取代之1至4个碳原子之烷 基; R 为1至8个碳之烷基,其烷 基为1至5个碳原子之卤烷基、氰烷 基或芳烷基,3至8个碳原子之环烷 基,其烷基为2至5个碳原子之烯基 ,卤烯基或芳烯基,其炔基为2至5 个碳原子之炔基,卤炔基或芳炔基, 或下式之基: - (CH2 )mNR R 或 (CH2)n -Y-R , 其中m为0至5及n为 1至5; R 为氢或1至5个碳原子之烷 基; R 为1至5个碳原子之烷基或 -CH2-Y-R 基; R 为1至5个碳原子之烷基, 2至5个碳原子之烯基或炔基,或 -CH(R )CO2R ; R 及R 为独立之氢或1至4 个碳原子之烷基;及 Y为氧或S(O),其中r为0 至2; R 为1至3个碳原子之烯基或 氟烯基; R 为氢,1至8个碳原子之烷 基或被取代之烷基,2至5个碳原子 之烯基或炔基、苯基、3-四氢 喃 基,2-氧-3-四氢 喃基,3- 四氢 嗯基,或其氧化物或二氧化物 ,3- 啶基、环丙基、环戊基、环 己基、环丙基甲基、四氢化糠基、糠 基、 嗯基或 基; R 及R 之一为烷基及另一为 其各独立烷基为1至4个碳原子之烷 基或烷硫基; R 为氧或N-OR ,其R 为氢或1至4个碳之烷基;及 R 及R 之一为氢,1至4个 碳原子之烷基,或3至5个碳原子之 烯基及另一为氢,1至4个碳原子之 烷基,1至4个烷基碳原子之氰烷基 ,2至4个碳原子之烷氧烷基,3至 5个碳原子之烯基,3至5个碳原子 之炔基,1至4个碳原子之烷硫醯基 ,芳硫醯基,其芳基为未取代或以卤 素或1至4个碳原子取伐之苯基,1 至4个碳原子之卤烷硫醯基,其各独 立烷基为1至4个碳原子之烷胺硫醯 基或二烷胺硫醯基,或CH-(H或 CH )CO烷基,其中烷基为1至 4个碳原子,或N(R )(R ) 为 咯烷基, 啶基或吗 环; 特征乃在 之存在下,下式合适 化合物 与R -X,R SO-X, X-R CO-Q R ,X-R CO N =C(R )(R ),X-R C(CH ) =R ,或X-R CON(R )(R ) 反应 ,W,X ,X ,R、Q、 Q 、R 、R 、R 、R 、R 、R 、R 、R 及R 为加上述 定义者,且X为可移去之基。4.根据上述请求专利部 份第3项之方法 ,其特征乃W为氧,R为正一内基或 3-氟丙基,X 为氟或氯,且X 为氯。5.一种制造下式化合物之方法: 其中W为氧或硫; R为1至6个碳原子之烷基,1 至5个碳原子之氟烷基,2至6个碳 之烷氧烷基,2至6个碳之烷硫烷基 ,1至5个烷基碳原子之氰烷基,2 至6个碳原子之卤烷氧烷基,三氟甲 基硫基,2至5个碳之烯基,或2至 5个碳之卤烯基; X 及X 之一为氟、氯或溴及 另一为氟、氯、溴、1至6个碳原子 之烷基,或1至5个碳原子之卤烷基 ;或X 为氟、氯或溴而X 为迭自 如上述之取代基及硝基;及 Z为-QR -CO-SR , -QR CO N=(R )(R )或 -QR CON(R )(R ); -QR CON(R )(R ); Q为氧或硫; R 为1至3个碳原子之烯基或 氟烯基; R 为氢,1至8个碳原子之烯 基或被取代之烯基,2至5个碳原子 之烯基或炔基、苯基、3-四氢 喃 基,2-氧-3-四氧 喃基,3- 四氢 嗯基或其氧化物或二氧化物, 3- 啶基、环丙基、环戊基、环己 基、环丙基甲基、四氢化糠基、糠基 、 嗯基或 基; R 及R 之一为烷基及另一为 其各独立之烷基为1至4个碳之烷基 或烷硫基;及 R 及R 之一为氢,1至4个 碳原子之烷基,或3至5个碳之烯基 及另一为氢,1至4个碳原子之烷基 ,1至4个烷基碳原子之氰烷基,2 至4个碳原子之烷氧烷基,3至5个 碳原子之烯基,3至5个碳原子之炔 基,1至4个碳原子之烷硫醯基,其 芳基为苯基或被卤素或1至4个碳原 子之烷基取代之苯基之芳硫醯基,1 至4个碳原子之卤烷硫醯基,其各独 立烷基为1至4个碳原子之烷胺硫醯 基或二烷胺硫醯基,或CH(H或 CH )CO 烷基,烷基为1至4 个碳原子,或N(R )(R )为 咯烷基, 啶基或吗 环; 特征乃在硷之存在下,下式化合 物: 与R SH,HO-N=C(R ) (R )或HN(R )(R )反应, 「W、X 、X 、R、Q、R 、 R 、R 、R 、R 及R 为如 上述定义及X为可移去之基。」6.根据上述请求专 利部份第5项之方法 ,其特征乃X为氯、溴或碘原子。7.一种制造下式化 合物之方法: 其中W为氧或硫; R为1至6个碳原子之烷基,1 至5个碳原子之氟烷基,2至6个碳 原子之烷氧烷基,2至6个碳原子之 烷硫烷基,1至5个烷基碳原子之氰 烷基,2至6个碳原子之卤烷氧烷基 ,三氟甲基硫基,2至5个碳之烯基 ,或2至5个碳之卤烯基; X 或X 之一为氟、氯或溴且 另一为氟、氯、溴、1至6个碳原子 之烷基,或1至5个碳原子之卤烷基 ;或X 为氟、或溴且X 为迭自如 上述取代基及硝基;及 Z为-N(R )(R ), -SO R ,-COR ; R 及R 独立选自氢,1至4 个碳之烷基,3至5个碳原子之烯基 或炔基,1至4个烷基碳原子之氰烷 基,乙醯基,1至4个烷基碳原子之 烷基羰基,2至4个碳原子之烷氧烷 基,胺基羰基,其烷基为1至4个碳 之烷胺羰基或二烷胺羰基,1至4个 碳之烷磺醯基,1至4个碳之卤烷磺 醯基,其芳基为未取代之苯基或被卤 卤素或1至4个碳原子之烷基所取代 之苯基之芳磺醯基,或 CH(H或CH )CO -烷基,其烷 基为1至4个碳原子,或N(R ) (R )为N=C(R )(R )基为 中R 及R 之一为烷基及另一为氢 ,烷基或烷硫基,上述烷基独立地为 1至4个碳原子,或N(R )(R ) 为四氢化 醯亚胺基或2-氧 咯烷 基; R 为羟基、胺基、其烷基含1 至4个碳原子之烷胺基或二烷胺基, 或其芳基为未取代苯基或被卤素或1 至4个碳原子之烷基取代之苯基之芳 胺基;及 R 为羟基,1至4个碳之烷氧 基或烷硫基、胺基,其烷基为1至4 个碳原子之烷胺基或二烷胺基,或其 芳基为未被取代苯基或被卤素或1至 4个碳烷基取代之苯基之芳胺基; 特征为: (a)还原上述式之化合物,其中Z为硝 基,以得到相当之化合物,(其中 Z为胺基),且将其Z为胺基之化 合物转变为Z为N(R )(R )之 化合物,或 (b)在硷存在下将上述式之化合物,其 中Z为-SO X 与R -H反应 ,以生成相当之化合物,其Z为 -SO R ,或 (c)在硷存在下将上述式化合物(其Z 为-COX),与R -H反应, 以生成相当之化合物(其Z为 -COR ),X为可移去之基。8.根据上述请求专利部份第 7项之方法 ,其特征乃X为氯、溴或碘原子。9.下式化合物 其特征在于W为氧或硫; R为1至6个碳原子之烷基,1 至5个碳原子之氟烷基,2至6个碳 原子之烷氧烷基,2至6个碳原子之 烷硫烷基,1至5个烷碳原子之氰烷 基,2至6个碳原子之卤烷氧烷基, 三氟甲基硫基,2至5个碳原子之烯 基,或3至5个碳原子之卤烯基; X 及X 之一为氟、氯、或溴 而另一为氟、氯、溴、1至6个碳原 子之烷基,或1至5个碳原子之卤烷 基;或X 为氟、氯、或溴及X 为 选自上述取代基及硝基;且 Z为选自氢、氟、氯、溴、氰基 、硝基,1至6个碳原子之烷基、被 氟、氯、溴或1至4个碳之烷氧基取 代之1至5个碳原子烷基,及3至5 个碳之炔基。10.根据上述请求专利部份第9项之化 合 物,其特征乃W为氧,R为正-丙基 或2-氟丙基,X 为氟或氯,及 X 为氮。11.下式化合物 其特征在于W为氧或硫; R为1至6个碳原子之烷基,1 至5个碳原子之氟烷基,2至6个碳 原子之烷氧烷基,2至6个碳原子之 烷硫烷基,1至5个烷碳原子之氰烷 基,2至6个碳原子之卤烷氧烷基, 三氟甲基硫基,2至5个碳原子之烯 基,或2至5个碳原子之卤烯基; X 及X 之一为氟、氯或溴而 另一为氟、氯、溴,1至6个碳原子 之烷基,或1至5个碳原子之卤烷基 ;或X 为氟、氯或溴及X 为选自 上述取代基及硝基;且 Z为-QR ,OSO R , -QR CO-Q R ,-QR CO N =C(R )(R ),-QR C(CH ) =R ,或-QR CON(R )(R ) ; Q及Q 为独立之氧或硫; R 为1至6个碳原子之烷基, 1至5个碳原子之卤烷基,1至5个 碳原子之羟烷基,1至5个烷碳原子 之氰烷基,2至6个碳原子之烷氧烷 基,(各为2至6个碳原子之)烷硫 烷基,烷亚磺醯烷基或烷磺醯烷基, 2至5个碳原子之烷醯基,2至5个 碳原子之烯基,2至5个碳之卤烯基 ,3至6个碳之烯氧烷基,2至5个 碳之炔基,2至5个碳之卤炔基,1 至4个烷碳原子之烷氧羰基,1至2 个具3至8个元素环之杂环基,相同 或不同之杂环原子选自氧及硫或被上 述杂环基取代之1至4个碳原子之烷 基; R 为1至8个碳之烷基,其烷 基为1至5个碳原子之卤烷基、氰烷 基或芳烷基,3至8个碳原子之环烷 基,其烯基为2至5个碳原子之烯基 ,卤烯基或芳烯基,其尖基为2至5 个碳原子之炔基,卤烷基或芳炔基, 或下式之基: -(CH )mNR R 或(CH )n -Y-R ,其中m为0至5及n为 1至5; R 为氢或1至5个碳原子之烷 基; R 为1至5个碳原子之烷基或 -CH -Y-R 基; R 为1至5个碳原子之烷基, 2至5个碳原子之烯基或炔基,或 -CH(R )CO R ; R 及R 为独立之氢或1至4 个碳原子之烷基;及 Y为氧或S(O)r,其中r为0 至2; R 为1至3个碳原子之烯基或 氟烯基; R 为氢,1至8个碳原子之烷 基或被取代之烷基,2至5个碳原子 之桸基或炔基、苯基、3-四氢 喃 基,2-氧-3-四氢 喃基.3- 四氢 嗯基,或其氧化物或二氧化物 ,3- 啶基、环丙基、环戊基、环 己基、环丙基甲基、四氢化糠基、糠 基、 嗯基或 基; R 及R 之一为烷基及另一为 其各独立烷基为1至4个碳原子之烷 基或烷硫基; R 为氧或N-OR ,其R 为氢或1至4个碳之烷基;及 R 及R 之一为氢,1至4个 碳原子之烷基,或3至5个碳原子之 烯基及另一为氢,1至4个碳原子之 烷基,1至4个烷基碳原子之氰烷基 ,2至4个碳原子之烷氧烷基,3至 5个碳原子之烯基,3至5个碳原子 之炔基,1至4个碳原子之烷硫醯基 ,芳硫醯基,其芳基为未取代或以卤 素或1至4个碳原子取代之苯基,1 至4个碳原子之卤烷硫醯基,其各独 立烷基为1至4个碳原子之烷胺硫醯 基或二烷胺硫醯基,或CH-(H或 CH )CO 基,其中烷基为1至 4个碳原子,或N(R )(R )为 咯烷基, 啶基或吗 环。12.根据上述请求专利部份 第11项之化合 物,其特征乃W为氧,R为正-丙基 或3-氟丙基,X 为氟或氯,且 X 为氯。13.下列化合物 其特征在于W为氧或硫; R为1至6个碳原子之烷基,1 至5个碳原子之氟烷基,2至6个碳 原子之烷氧烷基,2至6估碳原子之 烷硫烷基,1至5个烷基碳原子之氟 烷基,2至6个碳原氶之卤烷氧烷基 ,三氟甲基硫基,2至5个碳之烯基 ,或2至5个碳之卤烯基; X 或X 之一为氟、氯或溴且 另一为氟、氯、溴、1至6个碳原子 之烷基,或1至5个碳原子之卤烷基 ;或X 为氟、氯、或溴且X 为迭 自如上述取代基及硝基;及 Z为-N(R )(R ), -SO R ,或-COR ; R 及R 独立选自氢,1至4 个碳之烷基,3至5个碳原子之烯基 或炔基,1至4个烷基碳原子之氰烷 基,乙醯基,1至4个烷基碳原子之 烷基羰基,2至4个碳原子之烷氧烷 基,胺基羰基,其烷基为1至4个碳 之烷胺羰基或二烷胺羰基,1至4个 碳之烷磺醯基,1至4个碳之卤烷磺 醯基,其芳基为未取代之苯基或被卤 素或1至4个碳原子之烷基所取代之 苯基之芳磺醯基,或CH(H或CH )CO-烷基,其烷基为1至4个碳 原子,或N(R )(R )为N= C(R )(R )基其中R 及R 之一为烷基及另一为氢,烷基或烷硫 基,上述烷基独立地为1至4个碳原 子,或N(R )(R )为四氢化 醯亚胺基或2-氧 咯烷基; R 为羟基、胺基,其烷基含1 至4个碳原子之烷胺基或二烷胺基, 或其芳基为未取代苯基或被卤素或1 至4个碳原子之烷基取代之苯基之芳 胺基;及 R 为羟基,1至4个碳之烷氧 基或烷硫基、胺基,其烷基为1至4 个碳原子之烷胺基或二烷胺基,或其 芳基为未被取代苯基或被卤素或1至 4个碳烷基取代之苯基之芳胺基。14.根据上述请求 专利部份第13项之化合 物,其特征乃W为氧,R为正-丙基 或3-氟丙基,X 为氟或氯,及 X 为氯。15.下式化合物 其特征在于W为氧或硫; R为1至6个碳原子之烷基,1 至5个碳原子之氟烷基,2至6个碳 之烷氧烷基,2至6个碳之烷硫烷基 ,1至5个烷基碳原子之氰烷基,2 至6个碳原子之卤烷氧烷基,三氟甲 基硫基,2至5个碳之烯基,或2至 5个碳之卤烯基,2-氧丙基,或3 -氧丙基; X 及X 之一为氟、氯或溴及 另一为氟、氯、溴、1至6个碳原子 之烯基,或1至5个碳原子之卤烷基 ;或X 为氟、氯或溴而X 为迭自 如上述之取代基及硝基;及 Z为羟基,氢硫基,或 氧基。16.根据上述请求专利部 份第15项之化合 物,其特征乃W为氧,R为正-丙基 或3-氟丙基,X 为氟或氯,及 X 为氯。17.下式化合物 其特征在于W为氧或硫; X 及X 之一为氟、氯或溴而 另一为氟、氯、溴、1至6个碳原子 之烷基,或1至5个碳原子之卤烷基 ;或X 为氟、氯或溴而X 为选自 上述之取代基及硝基;且 Z为氢、氟、氯、溴、氰基、硝 基、1至6个碳原子之烷基,1至5 个碳原子三卤烷基,3至5个碳原 子之炔基,或QR ,其中Q为氧及 硫;及 R 为1至6个碳原子之烷基, 1至5个碳原子之卤烷基,2至6个 烷碳原子之氰烷基,2至6个碳原子 之烷氧烷基,(各为2至6个碳原子 之)烷硫烷基,烷亚磺醯烷基或烷磺 醯烷基,2至5个碳原子之烯基,2 至5个碳之卤烷基,碳原子,3至6 个碳之烯氧烷基,2至5个碳之炔基 或2至5个碳之卤炔基。18.根据上述请求专利部份 第17项之化合 物,其特征在于W氧,X 为氟或氯 ,X 为氯,及Z为-OR (其中 R 为苯甲基或1至4个碳原子之烷 基)。19.除草组合物,其特征在于其含有杀草 有效量之请求专利部份第9-14项任 一项之化合物及适当载体。20.控制不需要之植物 成长之方法,其物 徵在于施予需要控制之场地杀草有效 量之请求专利部份第19项之组成物。21.根据上述 请求专利部份第20项之方法 ,其特征在于需要控制之场地系种植 或将种植大豆、榖类、或棉花。 |
