发明名称 |
Cr<sup>3+</sup>、Nd<sup>3+</sup>:YVO<sub>4</sub>晶体和Cr<sup>3+</sup>、Nd<sup>3+</sup>:YVO<sub>4</sub>晶体的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及激光材料领域,尤其涉及Cr<sup>3+</sup>、Nd<sup>3+</sup>:YVO<sub>4</sub>晶体和Cr<sup>4+</sup>、Nd<sup>3+</sup>:YVO<sub>4</sub>晶体的制备方法。本发明的晶体制备方法,主要包括两个步骤,即多晶料合成及晶体生长。多晶料合成,分别采用固相法合成或者液相法合成。晶体生长包括步骤:D.熔化晶体:将烧结后的多晶块在一定温度下熔化,清洗籽晶并将熔体在此温度下恒温一定时间;E.晶体提拉生长:降低一定温度,以一定提拉速度,一定转速,开始晶体生长;F.晶体退火:将晶体提升脱离液面,按一定降温速率分阶段冷却至室温。本发明用提拉法容易地生长出大尺寸,高质量的晶体,生长速度快,有优良的光学特性。 |
申请公布号 |
CN101603206A |
申请公布日期 |
2009.12.16 |
申请号 |
CN200910112199.6 |
申请日期 |
2009.07.07 |
申请人 |
福州高意通讯有限公司 |
发明人 |
吴砺;卢秀爱;陈燕平;陈卫民;凌吉武 |
分类号 |
C30B29/30(2006.01)I;C30B15/00(2006.01)I |
主分类号 |
C30B29/30(2006.01)I |
代理机构 |
厦门市诚得知识产权代理事务所 |
代理人 |
方惠春;黄国强 |
主权项 |
1.Cr3+、Nd3+:YVO4晶体和Cr4+、Nd3+:YVO4晶体的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:多晶料合成步骤,包括:A.原料烘干:将一定纯度的原料在一定温度下烘干去水;B.混合原料:将烘干后的原料按一定比例称样、混合处理、压片;C.烧结原料:将压片后的原料在一定温度下烧结一定时间;晶体生长步骤,包括:D.熔化多晶料:将烧结后的多晶块在一定温度下熔化,清洗籽晶并将熔体在此温度下恒温一定时间;E.晶体提拉生长:降低一定温度,以一定提拉速度,一定转速,开始晶体生长;F.晶体退火:将晶体提升脱离液面,按一定降温速率分阶段冷却至室温。 |
地址 |
350014福建省福州市晋安区福兴大道39号 |