发明名称 高密度难熔金属和合金溅射靶
摘要 本发明涉及通过压制/烧结处理生产高密度难熔金属产品的方法。本发明还涉及生产溅射靶的方法以及由此生产的溅射靶。
申请公布号 CN101594955A 申请公布日期 2009.12.02
申请号 CN200880002255.4 申请日期 2008.01.15
申请人 H.C.施塔克公司 发明人 P·库马;C·B·伍德;G·罗扎克;S·A·米勒;G·泽曼;R·-C·R·吴
分类号 B22F3/10(2006.01)I;B22F3/04(2006.01)I 主分类号 B22F3/10(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 韦 东;王 颖
主权项 1.一种制备高密度难熔金属产品的方法,该方法包括:a)在约10,000psi至65,000psi的压力下冷等静压制难熔金属粉末,形成压制产品,所述难熔金属粉末是选自以下的粉末:i)钼粉末,ii)钨粉末,iii)钼-钨合金粉末,iv)钼合金粉末,其中合金金属不同于钨,和v)钨合金粉末,其中合金金属不同于钼;b)在以下温度条件下加热所述压制产品:以约20-120°F/小时的速率升高到约300-1000°F的第一温度,并在所述第一温度保持约1-38小时;c)在以下温度条件下继续加热所述压制产品:以约20-120°F/小时的速率从所述第一温度升高到约1500-2800°F的第二温度,并在所述第二温度保持约1-38小时;d)在以下温度条件下继续加热所述压制产品:以约20-120°F/小时的速率从所述第二温度升高到约3000-4000°F的第三温度,并在所述第三温度保持约1-38小时;和e)将所述压制产品冷却到室温。
地址 美国马萨诸塞州