发明名称 |
烹调器具及其制造方法 |
摘要 |
本发明的烹调器具,具备基体和在该基体表面上形成的薄膜,所述薄膜,含有硅(Si)、锆(Zr)和氧(O),分别将所述硅(Si)换算成氧化硅(SiO<sub>2</sub>)、将所述锆(Zr)换算成氧化锆(ZrO<sub>2</sub>)时,所述氧化硅(SiO<sub>2</sub>)相对于所述氧化锆(ZrO<sub>2</sub>)和所述氧化硅(SiO<sub>2</sub>)的总量的重量百分率为50重量%以下。 |
申请公布号 |
CN101595347A |
申请公布日期 |
2009.12.02 |
申请号 |
CN200880003617.1 |
申请日期 |
2008.01.30 |
申请人 |
住友大阪水泥股份有限公司 |
发明人 |
茂启二郎;前田大作;目次康格;矢泽朗;丸山大志 |
分类号 |
F24C14/00(2006.01)I;F24C15/00(2006.01)I;A47J36/02(2006.01)I;A47J36/04(2006.01)I;C23C26/00(2006.01)I |
主分类号 |
F24C14/00(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
樊卫民;郭国清 |
主权项 |
1.一种烹调器具,具备基体和在该基体表面上形成的薄膜,其特征在于,所述薄膜,含有硅(Si)、锆(Zr)和氧(O),分别将所述硅(Si)换算成氧化硅(SiO2)、将所述锆(Zr)换算成氧化锆(ZrO2)时,所述氧化硅(SiO2)相对于所述氧化锆(ZrO2)和所述氧化硅(SiO2)的总量的重量百分率为50重量%以下。 |
地址 |
日本东京都 |