发明名称 |
具有侧壁磁体的感应等离子体系统 |
摘要 |
一种衬底处理系统具有限定处理室的壳体。衬底夹持器放置在处理室内并被配置来在衬底处理期间支撑衬底平面内的衬底。气体传输系统被配置来将气体引入到处理室内。压力控制系统维持处理室内的选定压力。高密度等离子体生成系统与处理室可操作的耦合。具有磁偶极子的磁约束环沿垂直于衬底平面的对称轴呈圆周形放置,并且提供了具有基本不平行于衬底平面的净偶极矩的磁场。控制器控制气体传输系统、压强控制系统和高密度等离子体系统。 |
申请公布号 |
CN100564590C |
申请公布日期 |
2009.12.02 |
申请号 |
CN200610003273.7 |
申请日期 |
2006.02.08 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
陆思青;梁起威;赖灿风;杰森·博洛金;埃利·Y·易 |
分类号 |
C23C16/513(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;H01L21/365(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/513(2006.01)I |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
赵 飞 |
主权项 |
1.一种衬底处理系统,包括:限定处理室的壳体;放置在所述处理室内并被配置来在衬底处理期间支撑衬底平面内的衬底的衬底夹持器;被配置来将气体引入到所述处理室内的气体传输系统;用于维持所述处理室内的选定压力的压力控制系统;与所述处理室可操作地耦合的高密度等离子体生成系统;磁约束环,所述磁约束环具有沿垂直于所述衬底平面的对称轴呈圆周形放置的多个磁偶极子,并且提供了具有基本不平行于所述衬底平面的净偶极矩的磁场;以及用于控制所述气体传输系统、所述压力控制系统和所述高密度等离子体生成系统的控制器。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |