光刻装置、器件的制造方法及由此制得的器件

摘要

本发明披露了各种新颖的清洁方法。先前的清洁方法普遍在于它们都包括将氧气注入整个系统内并将提供清洁辐射光束的单个辐射源接入到光刻装置内的每个光学元件。这会导致一些光学元件的过度曝光，而同时其它的光学元件并未被足够程度地清洁。通过提供一种系统就可以克服这一问题，该系统允许选择性地清洁一些或一组光学元件，且允许在光学元件的表面上出现空间变化的清洁。这可以通过仅仅向一个或一些光学元件供给清洁辐射光束和/或通过增加某些光学元件附近的局部氧气密度来实现。通过使用可以是动态自适应的灰色滤光片或者通过使用可控制的电子束部件就能够获得空间分解的清洁。

主权项

1.一种光刻投射装置，包括：-用于提供辐射投射光束的辐射系统；-用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据期望的图案对辐射投射光束进行构图；-用于固定基底的基底台；-用于将图案化的辐射投射光束投射到基底的目标部分上的投射系统；和-一个光学元件，该光学元件形成所述辐射系统、所述构图部件或所述投射系统的一部分，其特征在于清洁部件采用清洁辐射光束和气体来清洁所述光学元件，并且所述清洁部件包括空间变化部件，用来在所述光学元件的表面上引出空间变化清洁量；所述空间变化部件包括一个灰色滤光片，该灰色滤光片被设置用来调节所述清洁辐射光束，以使得在所述光学元件表面上提供空间变化的辐射强度。