| 主权项 |
1.一种制备水不溶性,含水硷溶性之薄膜成形酚醛清漆树脂之方法,其系包含:a)在固体酸性离子交换树脂触媒之存在下,将甲醛与一或多种酚类化合物予以缩合,而该酸性交换树脂系不溶于具取代基之酚、甲醛、丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)、二丙二醇甲醚(DPGME)以及3-甲氧基-3-甲基丁醇(MMB);b)在综合反应之后,将固体酸性触媒移除;以及c)将未反应之酚类化合物予以移除,因此而制得一种水不溶性、硷溶液可溶性之薄膜成形酚醛清漆树脂,其具有分别少于200ppb之钠及铁离子含量。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该固体酸性触媒在缩合反应之后,系藉由过滤而分离移除。3.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中该钠及铁离子之含量系降低至分别少于100ppb。4.一种制备正光阻组合物之方法,其包含:a)在固体酸性离子交换树脂触媒之存在下,将甲醛与一或多种酚类化合物予以缩合,而该酸性交换树脂系不溶于具取代基之酚、甲醛、丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)、二丙二醇甲醚(DPGME)以及3-甲氧基-3-甲基丁醇(MMB);b)在缩合反应之后,将固体酸性触媒移除;以及c)将未反应之酚类化合物予以移除,因此而制得一种水不溶性、硷溶液可溶性之薄膜成形酚醛清漆树脂,其具有分别少于200ppb之钠及铁离子含量;d)制备一种下列之预混物:1)一种光敏性成份,其用量系为足以将该光阻组合物予以光敏化者;2)步骤c)之该水不溶性、硷溶液可溶性之薄膜成形酚醛清漆树脂以及3)一种适当之光阻性溶剂,以形成一种光阻组合物。5.根据申请专利范围第4项之方法,其中该固体酸性触媒在缩合反应之后,系藉由过滤而分离移除。6.根据申请专利范围第4项之方法,其中该钠及铁离子之含量系降低至分别少于100ppb。7.根据申请专利范围第4项之方法,其中该光阻性溶剂,系选自由:丙二醇甲基醚醋酸酯,乳酸乙酯:2-庚酮,以及乙基-3-乙氧基丙酸酯所组成之群。8.一种制造半导体装置之方法,其系藉由在适当之基材上以形成光显影影像,其包含:a)在固体酸性离子交换树脂触媒之存在下,将甲醛与一或多种酚类化合物予以缩合,而该酸性交换树脂系不溶于具取代基之酚、甲醛、丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)、二丙二醇甲醚(DPGME)以及3-甲氧基-3-甲基丁醇(MMB);;b)在缩合反应之后,将该固体酸性离子交换树脂触媒移除;以及c)将未反应之酚类化合物予以移除,因此而制得一种水不溶性、硷溶液可溶性之薄膜成形酚醛清漆树脂,其具有分别少于200ppb之钠及铁离子含量;d)制备一种下列之预混物:1)一种光敏性成份,其用量系为足以将该光阻组合物予以光敏化者;2)该水不溶性、硷溶液可溶性之薄膜成形酚醛清漆树脂以及3)一种适当之光阻性溶剂,以形成一种光阻组合物;e)将步骤d)之该光阻组合物涂覆在适当之基材上;f)对该经涂覆之基材进行加热处理,直至实质上所有的光阻性溶剂皆去除为止;将光阻性组合物予以全影像曝光;以例如水溶性硷性显像剂移除此等组合物之全影像曝光区域。9.根据申请专利范围第8项之方法,其中该固体酸性触媒在缩合反应之后,系藉由过滤而分离移除。10.根据申请专利范围第8项之方法,其中该钠及铁离子之含量系降低至分别少于100ppb。11.根据申请专利范围第8项之方法,其中该光阻性溶剂,系选自由:丙二醇甲基醚醋酸酯,乳酸乙酯,2-庚酮,以及乙基-3-乙氧基丙酸酯所组成之群。 |
