光阻组成物之评估方法

摘要

本发明为提供一种于浸渍微影蚀刻(immersion lithography)处理步骤中所使用之溶媒具有安定性，且具有优良感度、优良光阻图案外观形状之光阻组成物，及使用该光阻组成物之光阻图案之形成方法。其为包含属于某一参数范围之光阻组成物，或含有酸解离性溶解抑制基，可因酸作用而增大硷可溶性之树脂成份(A)，与酸产生剂成分(B)，与有机溶剂，且前述(A)成分为含有(a1)由具有酸解离性溶解抑制基之（甲基）丙烯酸酯所衍生之结构单位，且不含有(a0)(a0－1)含二羧酸之无水物结构单位及(a0－2)含酚性羟基之结构单位的正型光阻组成物。

主权项

一种光阻组成物之评估方法，其为评估包含浸渍曝光步骤之光阻图案形成方法所使用之正型光阻组成物是否适当之评估方法，其判断方式为将使用波长193nm光源的一般曝光之微影蚀刻步骤所得130nm之线路与空间为1：1之光阻图案时之感度为X1，又，同样使用193nm光源的一般曝光之微影蚀刻步骤中，于选择性曝光与曝光后加热(PEB)间，加入使上述浸渍曝光之溶媒与光阻膜接触之步骤的模拟浸渍微影蚀刻步骤而形成同为130nm之线路与空间为1：1之光阻图案时之感度为X2时，以[(X2/X1)-1]×100之绝对值为8.0以下时为适当。