| 发明名称 | 半导体基板洗涤液组合物 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供一种半导体基板洗涤液组合物，其在半导体电路元件的制备工序中，可以去除基板表面的金属杂质而不腐蚀铜布线。本发明的清洗半导体基板的洗涤液，为含有一种或两种以上的脂肪族多元羧酸类和一种或两种以上的碱性氨基酸类的洗涤液组合物，由此，在具有铜布线的半导体基板的清洗工序中，特别是在化学机械抛光(CMP)后的铜布线裸露的半导体基板的清洗工序中，可以去除金属杂质而不腐蚀铜布线。 | ||
| 申请公布号 | CN101580774A | 申请公布日期 | 2009.11.18 |
| 申请号 | CN200910136547.3 | 申请日期 | 2009.05.06 |
| 申请人 | 关东化学株式会社 | 发明人 | 村上丰;石川典夫 |
| 分类号 | C11D7/26(2006.01)I;C11D7/32(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张 晶 |
| 主权项 | 1、一种清洗半导体基板的洗涤液组合物，其特征在于，所述洗涤液组合物含有一种或两种以上的脂肪族多元羧酸类和一种或两种以上的碱性氨基酸类。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||