发明名称 基于霍尔效应的超高密度磁随机存储器及其制备方法
摘要 本发明涉及基于霍尔效应的超高密度磁随机存储器及制造方法,磁随机存储器为九层或八层结构形式,主要包括四层功能层:霍尔器件层、图形化磁性介质层、环形位导线层和字导线层,上述四个器件的中心精确对准。八层结构在九层结构的基础上,去掉图形化磁性介质层。该磁随机存储器的存储单元尺度为纳米级,可大幅度提高存储密度。对于九层结构的磁随机存储器制作方法采用霍尔器件、图形化磁性介质、环形位导线层和字导线层纳米结构图形的三个透明模版,利用紫外固化纳米压印技术,分四次在负性光刻胶上依次复制出四种器件的图形;在每次淀积器件材料后,用剥离法溶解光刻胶,即得到器件;对于八层结构,只要去掉图形化磁性介质的相应制作步骤即可。
申请公布号 CN100561747C 申请公布日期 2009.11.18
申请号 CN200710017940.1 申请日期 2007.05.29
申请人 西安交通大学 发明人 丁玉成;刘红忠;叶向东;卢秉恒
分类号 H01L27/22(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I;G11C11/18(2006.01)I 主分类号 H01L27/22(2006.01)I
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 代理人 李郑建
主权项 1.一种基于霍尔效应的超高密度磁随机存储器,包括一基底,其特征在于,在基底上方依次设有第一电绝缘层(2)、霍尔器件层(3)、第二电绝缘层(4)、位导线层(5)、第三电绝缘层(6)、字导线层(7)、第四电绝缘层(8);所述的霍尔器件层(3)上的霍尔器件为有磁滞效应的记忆型器件。
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