发明名称 SUBSTRATE-HOLDING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 기판 유지 장치는, 기판 (W) 을 흡착 유지하는 기판 홀더 (WH) 와, 기판의 이면을 흡착하는 흡착부를 일단에 갖고, 그 흡착부에서 기판 (W) 의 이면을 흡착한 상태로, 기판 홀더 (WH) 에 대해 상대적으로 이동 가능한 복수의 상하동 핀 유닛 (34, 34, 34) 을 구비하고 있다. 복수의 상하동 핀 유닛 (34, 34, 34) 은, 상기 흡착부를 포함하는 적어도 일부가 상기 흡착한 기판 (W) 으로부터 받는 힘의 작용에 의해 적어도 일 방향으로 변위한다.
申请公布号 KR20160078413(A) 申请公布日期 2016.07.04
申请号 KR20167013873 申请日期 2014.10.29
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 SHIBAZAKI YUICHI
分类号 H01L21/683;G03F7/20;H01L21/687 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人
主权项
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