发明名称 Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
摘要 Die vorliegende Erfindung betrifft eine Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage. Die Komponente umfasst dabei eine Mehrzahl von Blenden, die bezüglich einer zur Scanbewegung senkrechten Richtung nebeneinander angeordnet sind und sich in ihrer Form unterscheiden und deren Position etwa in Scanrichtung veränderbar ist, so dass ein Anteil der Beleuchtungsenergie durch wenigstens eine Blende vignettierbar ist. Die Form der einzelnen Blende ist dabei speziell an die Form der Ausleuchtung in einer Blendebene angepasst, in der die Komponente angeordnet ist. Dies führt dazu, dass zumindest Teile der begrenzenden Kanten zweier Blenden sich bei einer beliebigen Verschiebung der Blenden stets unterscheiden.
申请公布号 DE102008001553(A1) 申请公布日期 2009.11.12
申请号 DE20081001553 申请日期 2008.05.05
申请人 CARL ZEISS SMT AG 发明人 STUETZLE, RALF;ENDRES, MARTIN;OSSMANN, JENS;LAYH, MICHAEL
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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