发明名称 |
一种物镜检验装置以及方法 |
摘要 |
本发明提供了一种物镜检测装置以及方法。现有技术通过在覆盖有光阻的晶圆上多次曝光来进行物镜检测致使检测过程复杂且效率低下。本发明的物镜检测装置包括光源,掩模台,工件台,物镜框架,分别用于驱动掩模台和工件台运动的掩模台驱动装置和工件台驱动装置,分别设置在掩模台与工件台上且具有多个对应的对准图形的第一和第二掩模,用于探测透过第二掩模上的对准图形的光的强度和该些对准图形位置的探测模块,用于控制驱动第一与第二掩模对准以及在两者对准后控制工件台驱动装置驱动工件台进行扫描运动的控制模块,以及用于将扫描运动中所探测到的数据运行一处理程序以得到待检测物镜的成像质量参数的处理模块。采用本发明可简化物镜的测量过程。 |
申请公布号 |
CN100559280C |
申请公布日期 |
2009.11.11 |
申请号 |
CN200710044558.X |
申请日期 |
2007.08.03 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
刘国淦;孙刚 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 |
代理人 |
王 洁 |
主权项 |
1、一种物镜检测装置,用于检测物镜的成像质量参数,其包括光源、掩模台、工件台、用于放置待检测物镜的物镜框架、分别用于驱动掩模台和工件台运动的掩模台驱动装置和工件台驱动装置,其特征在于,该物镜检测装置还包括:第一掩模和第二掩模,其分别设置在该掩模台和该工件台上且具有多个对应的对准图形,并分别随该掩模台和该工件台一起运动,该第一掩模和第二掩模上的对准图形成一预定比例,该预定比例等于所述物镜的名义放大率;探测模块,设置在该第二掩模下,用于探测透过该第二掩模上的对准图形的光的强度和该些对准图形的位置;控制模块,用于控制掩模台驱动装置和工件台驱动装置分别驱动掩模台和工件台运动以使第一掩模与第二掩模对准,且在第一与第二掩模对准后控制工件台驱动装置驱动工件台在一预设区域内进行扫描运动;处理模块,用于将探测模块在工件台进行扫描运动时所探测的数据运行一处理程序以得到待检测物镜的成像质量参数。 |
地址 |
201203上海市张江高科技园区张东路1525号 |