| 发明名称 | 真空沉积方法和真空沉积用密封型蒸发源设备 | ||
| 摘要 | 提供一种真空沉积方法。在使升华蒸发材料(22)蒸发的真空沉积中，气密型加热容器(11)具有喷射开口(14)和具有用来自其内表面的辐射热使所述蒸发材料蒸发的区域。支架(15)将蒸发材料保持在由于从加热容器(11)传递的热量没有使蒸发材料蒸发的区域中。从而，所产生的蒸气从喷射开口(14)喷射至该容器外的沉积对象表面上。 | ||
| 申请公布号 | CN100557068C | 申请公布日期 | 2009.11.04 |
| 申请号 | CN200580009356.0 | 申请日期 | 2005.01.21 |
| 申请人 | 双叶电子工业株式会社 | 发明人 | 高木俊宣;中村宏毅;渡辺宽;福田辰男 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 主权项 | 1.一种使升华蒸发材料蒸发的真空沉积方法，其包含下列步骤：制备具有喷射开口的气密型加热容器；将所述蒸发材料保持在由于来自所述气密型加热容器的热传导没有使所述蒸发材料蒸发的所述加热容器的被动加热区域中；在由于来自所述气密型加热容器的辐射热使所述蒸发材料蒸发的所述加热容器的主动加热区域中，使所述蒸发材料蒸发；以及从所述开口向所述加热容器外的沉积对象表面喷射所得到的蒸气。 | ||
| 地址 | 日本千叶县 | ||