NOVEL COPPER(I) PRECURSORS FOR CHEMICAL DEPOSIT IN GAS PHASEOF METALLIC COPPER

摘要

L'invention concerne des complexes de coordination du cuivre à l'état oxydé (+1) stabilisé par un ligand pour la déposition chimique en phase vapeur de cuivre, dans lesquels le cuivre est coordonné à une .beta .- dicétonate et le ligand est un alcyne dont la triple liaison est partiellement désactivée par un ou deux groupements légèrement attracteurs d'électrons portés par ledit alcyne.