Procédé pour la dotation de matière semi-conductrice.,申请号BE19590579666-传众专利搜索

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发明名称	Procédé pour la dotation de matière semi-conductrice.
摘要
申请公布号	BE579666(A1)	申请公布日期	1959.12.14
申请号	BE19590579666	申请日期	1959.06.13
申请人	SIEMENS-SCHUCKERTWERKE AKTIENGESELLSCHAFT	发明人
分类号	(IPC1-7):H01L	主分类号	(IPC1-7):H01L
代理机构		代理人
主权项
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