Verfahren zur Herstellung einer mikromechanischen Membranstruktur mit feststehendem Gegenelement

摘要

Mit der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer mikromechanischen Membranstruktur (11) mit feststehendem Gegenelement (12) vorgeschlagen, das von einem p-dotierten Si-Substrat (1) ausgeht. Dieses Verfahren umfasst die folgenden Prozessschritte: - n-Dotierung mindestens eines zusammenhängenden gitterförmigen Bereichs (2) der Substratoberfläche; (Fig. 1a) - porös Ätzen eines Substratbereichs (3) unterhalb der n-dotierten Gitterstruktur (2); Fig. 1b-c) - Oxidation des porösen Siliziums; (Fig. 1d) - Erzeugen mindestens einer Opferschicht (5) über der n-dotierten Gitterstruktur (2); (Fig. 1e) - Abscheidung und Strukturierung mindestens einer dicken Epitaxieschicht (7); Fig. 1f-g) - Entfernen der Opferschicht (5) zwischen der dicken Epitaxieschicht (7) und der n-dotierten Gitterstruktur (2) und Erzeugen einer Kaverne (10) im Si-Substrat (1) unterhalb der n-dotierten Gitterstruktur (2) durch Entfernen des oxidierten porösen Siliziums (oxPorSi); (Fig. 1h), so dass die freigelegte n-dotierte Gitterstruktur (2) eine Membranstruktur (11) bildet und in der strukturierten dicken Epitaxieschicht (7) mindestens ein feststehendes Gegenelement (12) ausgebildet ist.