| 发明名称 | 前段工序中用于清洁离子注入的光致抗蚀剂的组合物 | ||
| 摘要 | 用于从晶片基板去除非灰化的离子注入的光致抗蚀剂的前段(FEOL)剥离和清洁的组合物，包括：a)至少一种有机剥离溶剂，b)至少一种选自氟化铵，氟化氢铵或氟化氢的氟离子，c)至少一种选自无机酸或有机酸的酸化剂，d)水，组合物中还可任选地含有氧化剂。 | ||
| 申请公布号 | CN100555580C | 申请公布日期 | 2009.10.28 |
| 申请号 | CN200680011122.4 | 申请日期 | 2006.03.13 |
| 申请人 | 马林克罗特贝克公司 | 发明人 | 肖恩·M·凯恩;斯蒂芬·A·利皮 |
| 分类号 | H01L21/311(2006.01)I;C11D11/00(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/311(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张平元;赵仁临 |
| 主权项 | 1.从晶片基板上剥离/清洁未灰化的离子注入的光致抗蚀剂的FEOL剥离和清洁方法，该方法包括在没有超临界CO2下进行该方法，且包括将晶片基板上未灰化的离子注入的光致抗蚀剂与FEOL剥离/清洁组合物接触足够的时间，以清洁具有未灰化的离子注入的光致抗蚀剂的晶片基板，其中所述FEOL剥离/清洁组合物包含：a)至少一种有机剥离溶剂，b)至少一种选自氟化铵、氟化氢铵和氟化氢的氟离子，c)至少一种选自非HF的无机酸或有机酸的酸化剂，d)水，和e)至少一种氧化剂；其中所述选自非HF的无机酸或有机酸的至少一种酸化剂以使得总的酸性溶液pH＜5的量存在。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||