衬底热处理设备和衬底热处理方法

摘要

本发明涉及一种衬底热处理设备，在该设备中，衬底支架单元布置在真空腔中并可竖直地运动，所述衬底支架单元包括由具有高辐射率的碳或覆盖有碳的材料制成的衬底台架。包括与衬底台架相对的散热表面的加热单元在真空腔中设置在衬底台架上方。衬底台架运动接近散热表面以用来自散热表面的辐射热与衬底非接触地加热衬底。衬底支架单元包括辐射板和反射板。

主权项

1.一种衬底热处理设备，所述设备包括：包括衬底台架的衬底支架单元，衬底布置在所述衬底台架上，且所述衬底台架由碳或覆盖有碳的材料制成，设置在所述衬底台架上方的加热单元，所述加热单元包括与所述衬底台架相对的散热表面，并用来自所述散热表面的辐射热与布置在所述衬底台架上的所述衬底非接触地加热所述衬底，腔，所述衬底支架单元和所述加热单元布置在所述腔中，以及升降装置，其使所述衬底支架单元和所述加热单元中至少之一在所述腔中竖直地运动以使所述衬底台架和所述加热单元的散热表面相互接近或相互间隔开，其中所述衬底支架单元包括：辐射板，所述辐射板与所述衬底台架有间隙地布置在所述衬底台架下方，捕获从所述衬底台架的下表面发射的热，并朝所述衬底台架辐射所捕获的热，以及反射板，所述反射板与所述辐射板有间隙地布置在所述辐射板下方，并反射从所述辐射板发射的热。