| 发明名称 |
电化学-机械抛光组合物及使用彼之方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种电化学－机械抛光组合物，其包含(a)化学上呈惰性、水溶性盐、(b)腐蚀抑制剂、(c)聚电解质、(d)错合剂、(e)醇及(f)水。本发明亦提供一种抛光包含一或多个导电金属层之基板之方法，该方法包含以下步骤：(a)提供包含一或多个导电金属层之基板，(b)将该基板之一部分浸入一种电化学－机械抛光组合物中，该抛光组合物包含：(i)化学上呈惰性、水溶性盐、(ii)腐蚀抑制剂、(iii)聚电解质、(iv)错合剂、(v)醇及(vi)水，(c)对该基板施加一阳极电位，该阳极电位至少施加于该基板浸入该抛光组合物中之部分，及(d)研磨至少一部分该基板所浸入部分以来抛光该基板。 |
| 申请公布号 |
TWI316083 |
申请公布日期 |
2009.10.21 |
| 申请号 |
TW094116517 |
申请日期 |
2005.05.20 |
| 申请人 |
卡博特微电子公司 |
发明人 |
维斯塔 布鲁斯克;麦可Ｆ 理查德森;大卫Ｊ 史洛德;张吉 |
| 分类号 |
C09K3/14;H01L21/321;H01L21/02 |
主分类号 |
C09K3/14 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
一种电化学-机械抛光组合物，其包含：(a)化学上呈惰性、水溶性盐，(b)腐蚀抑制剂，(c)聚电解质，(d)错合剂，(e)醇，以该抛光组合物之总重量计，该醇以5至40重量%之量存在于该抛光组合物中，及(f)水。 |
| 地址 |
美国 |
