发明名称 半导体设备及其制作方法
摘要 本发明的目的是提供一种能够防止由于水份或氧气进入而导致损坏的半导体装置,例如具有形成于塑料基片上的有机发光装置的发光设备、采用塑料基片的液晶显示设备。根据本发明,在玻璃基片或石英基片上形成的装置(TFT、具有有机化合物的发光装置、液晶装置、存储装置、薄膜二极管、销连接硅光电转换器、硅电阻元件等)从基片上分离,并转移至具有高热导率的塑料基片上。
申请公布号 CN101562190A 申请公布日期 2009.10.21
申请号 CN200910145438.8 申请日期 2003.10.10
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 山崎舜平;高山彻;丸山纯矢;福本由美子
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L23/14(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 林毅斌;李平英
主权项 1.一种显示设备,包括:具有导热性的塑料基片;与所述塑料基片接触的粘结剂;与所述粘结剂接触的绝缘膜;以及位于所述绝缘膜上的薄膜晶体管;其中所述塑料基片的热导率比粘结剂的热导率高。
地址 日本神奈川县厚木市