发明名称 ИСТОЧНИК ИОНОВ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ
摘要 1. Источник ионов, содержащий: ! плазменную генераторную камеру; ! ограждающую стенку, выполненную из диэлектрического материала и ограничивающую упомянутую плазменную генераторную камеру; ! высокочастотную антенну, установленную на внешней поверхности упомянутой ограждающей стенки и генерирующую плазму в упомянутой плазменной генераторной камере; и ! конструкцию, установленную внутри упомянутой плазменной генераторной камеры, при этом упомянутая конструкция выполнена из диэлектрического материала и ограничивает осаждение на внутренней поверхности упомянутой ограждающей стенки, находящейся перед упомянутой высокочастотной антенной. ! 2. Источник ионов по п.1, в котором упомянутая конструкция представляет собой защитный корпус, выполненный из диэлектрического материала, покрывающий внутреннюю поверхность упомянутой ограждающей стенки и содержащий, по меньшей мере, одну прорезь, сформированную в направлении, пересекающем направление намотки упомянутой высокочастотной антенны. ! 3. Источник ионов по п.2, в котором упомянутый защитный корпус установлен около внутренней поверхности упомянутой ограждающей стенки. ! 4. Источник ионов по п.1, в котором упомянутая конструкция представляет собой выступ или углубление, сформированный(ное) на, по меньшей мере, одной части внутренней поверхности упомянутой ограждающей стенки и продолженный(ное) в направлении, пересекающем направление намотки упомянутой высокочастотной антенны. ! 5. Источник ионов по п.1, в котором упомянутая конструкция содержит: ! выступ или углубление, сформированный(ное) на, по меньшей мере, одной части внутренней поверхности упомянутой огражд�
申请公布号 RU2008113834(A) 申请公布日期 2009.10.20
申请号 RU20080113834 申请日期 2006.09.07
申请人 УЛВАК, ИНК. (JP) 发明人 САСАКИ Наруясу (JP);СИМИЗУ Сабуроу (JP);КУНИБЕ Тосидзу (JP)
分类号 H01J27/16 主分类号 H01J27/16
代理机构 代理人
主权项
地址