| 发明名称 | 滑动元件 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种滑动元件，特别是滑动轴承，包括支承元件和滑动层，在所述支承元件和滑动层之间设置轴承合金层，其中所述滑动层由铋或铋合金构成，并且其中铋或铋合金的微晶在滑动层中相对于其定向占据一个优选的方向，其通过晶格平面的密勒指数(012)表示，其中密勒指数为(012)的晶格平面的X光衍射强度相对于其他晶格平面的X光衍射强度是最大的。具有第二大的X光衍射强度的晶格平面的X光衍射强度最多是密勒指数为(012)的晶格平面的X光衍射强度的10％。 | ||
| 申请公布号 | CN100549447C | 申请公布日期 | 2009.10.14 |
| 申请号 | CN200710089066.2 | 申请日期 | 2007.03.29 |
| 申请人 | 米巴·格来特来格有限公司 | 发明人 | T·朗夫 |
| 分类号 | F16C33/12(2006.01)I;F16C33/14(2006.01)I;B32B15/01(2006.01)I;C22C12/00(2006.01)I;C25D3/54(2006.01)I;C25D7/10(2006.01)I | 主分类号 | F16C33/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 谢志刚 |
| 主权项 | 1.滑动元件，包括支承元件和滑动层，在所述支承元件和滑动层之间设置轴承合金层，其中所述滑动层由铋或铋合金构成，并且其中铋或铋合金的微晶在滑动层中相对于其定向占据一个优选的方向，其通过晶格平面的密勒指数(012)表示，其中密勒指数为(012)的晶格平面的X光衍射强度相对于其他晶格平面的X光衍射强度是最大的，其特征在于，具有第二大的X光衍射强度的晶格平面的X光衍射强度最多是密勒指数为(012)的晶格平面的X光衍射强度的10％。 | ||
| 地址 | 奥地利拉基兴 | ||