| 发明名称 | 位置测量系统和光刻装置 | ||
| 摘要 | 本发明描述了用于测量目标位置的位置测量系统，该系统包括：第一增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第一间距步长的第一数量，其中所述第一数量等于第一整数值加第一小数部分，以及第二增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第二间距步长的第二数量，其中所述第二数量等于第二整数值加第二小数部分，其中所述位置测量系统构造和布置成根据第一数量和第二小数部分初始化第二增量测量单元。 | ||
| 申请公布号 | CN100549834C | 申请公布日期 | 2009.10.14 |
| 申请号 | CN200610126728.4 | 申请日期 | 2006.09.01 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | W·O·普里尔;E·J·M·尤森;E·A·F·范德帕斯奇 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1.一种用于测量目标位置的位置测量系统，包括；第一增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第一间距步长的第一数量，其中所述第一数量等于第一整数值加第一小数部分，第二增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第二间距步长的第二数量，其中所述第二数量等于第二整数值加第二小数部分，其中所述位置测量系统构造和布置成根据第一数量和第二小数部分初始化第二增量测量单元。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||