发明名称 | 清洗液以及移除电浆制程后之残余物的方法 | ||
摘要 | 一种移除电浆制程后之残余物的方法,先提供一基底,基底上至少已形成有一材料层,材料层的材质包括金属。然后,进行含氟电浆制程,于材料层表面产生含有前述金属之残余物。继而使用清洗液进行一湿式清洗步骤,以移除残余物,清洗液是由水、稀释的氢氟酸与酸溶液所组成的。 | ||
申请公布号 | TWI315890 | 申请公布日期 | 2009.10.11 |
申请号 | TW095104507 | 申请日期 | 2006.02.10 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 翁正明;林苗均;王美琪;廖俊雄;杨伟成 |
分类号 | H01L21/306 | 主分类号 | H01L21/306 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | 一种清洗液,适于移除包含有氟化钛之一化合物,该清洗液包括:氢氟酸以外之一酸溶液,该酸溶液占清洗液的重量百分比大于等于1%;一稀释的氢氟酸,该稀释的氢氟酸之浓度大于等于30ppm;以及水。 | ||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |