发明名称 |
氧化镓-氧化锌系溅镀靶、透明导电膜之形成方法及透明导电膜 |
摘要 |
本发明系一种高密度氧化镓-氧化锌系烧结体溅镀靶,其特征系含有20~500质量ppm之氧化铝。本发明系于氧化镓(Ga2O3)-氧化锌(ZnO)系溅镀靶(GZO系靶)中微量添加特定元素来改善导电性及靶整体密度,亦即,藉由改善成分组成而获得一种靶,其可提高烧结密度,进而抑制突粒生成,可防止异常放电与粒子生成,本发明同时提供使用该靶形成透明导电膜之方法以及利用该方法所形成之透明导电膜。 |
申请公布号 |
TWI315351 |
申请公布日期 |
2009.10.01 |
申请号 |
TW095119941 |
申请日期 |
2006.06.06 |
申请人 |
日鑛金属股份有限公司 |
发明人 |
长田幸三 |
分类号 |
C23C14/08;C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/08 |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒;阎启泰 |
主权项 |
一种高密度氧化镓-氧化锌系烧结体溅镀靶,其特征在于含有20~500质量ppm之氧化铝。 |
地址 |
日本 |